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FPD制造设备
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PHOTO MASK设备
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光刻胶开发设备
蒸镀掩膜板
Roll to Roll 曝光设备 DZ
DZ 是一种紧密接触型曝光设备，最适合用于 IC 引线框架、HDD 悬挂负载梁和 OLED 气相沉积掩模的曝光。除了采用垂直输送垂直曝光方式的设备外，还有支持水平输送水平曝光的机型和单晶圆型机型，可兼容多种应用。
Maskless曝光机
Maskless曝光机采用作为空间光调制器之一的数字微镜装置（Digital Micromirror Device：DMD）作为曝光图案生成器，这是一种将DMD上放映的图案数据缩小投影到光刻胶上的数字曝光装置。因为可以直接曝光在电脑上制作的曝光数据，所以可以自由地创建曝光模式。
自动涂布显影设备 Dual-1000
Litho Tech Japan 自成立以来，专注于光刻技术的研究，拥有非常全面的光刻技术，包含硬件、软件和工艺，提供高性能的光刻工艺设备和光刻胶分析设备。2021年成为VTEC全资子公司，加入半导体材料生产、研发的设备及光刻技术事业，不断创新，提供满足客户需要的产品和服务
自动显影烘烤装置 LITHOTRAC CB-50
自动显影烘烤装置 LITHOTRAC DB-50
树脂分析器RDA-760
光刻胶显影分析器 RDA-790
光刻胶显影分析仪RDA-800
光刻胶平面曝光装置 VUVES-4700
V.E.T. Co., Ltd. 成立于2017年12月1日，是VTEC集团的全资子公司，负责蒸镀掩膜板的开发和制造。我们在日本山形县米泽市设有一家工厂，专门从事与 OLED 生产相关的各种需求的研发和 FHM 生产。
内存测试仪
VTEC集团于2018年4月，与海宁瑞美科技有限公司等合资成立了浙江芯晖装备技术有限公司（Z-CSET），总部位于浙江省嘉兴市海宁市海宁经济开发区。运用日本的技术、本公司集团的设计、制造能力、在中国当地制造等特色，灵活迅速地实现满足客户交期、品质、性能、成本等各种要求的中国制装置。
wafer研磨装置
光配向膜曝光设备 AEGIS
AEGIS是CELL工艺（TFT基板与彩膜基板贴合工艺）的核心制造设备，在液晶显示器的制造中占有重要地位。该设备是一种形成称为配向膜的功能性聚合物膜的设备，该膜使用特殊的紫外线和小型光掩模将显示器内部的液晶分子定向到某个方向。 可以准确、均匀地扫描曝光在涂有薄薄一层功能性高分子膜的母玻璃（最大约 3m x 4m）上，实现高生产率和均匀的曝光质量。另外，与传统的“摩擦法”相比，由于取向膜是利用光以非接触方式形成的，因此原则上不会出现异物和划痕等缺陷，并且可以大幅提高成品率。
人才猎头中介服务
微铁克（上海）人力资源管理有限公司（VSHC），是V-TEC集团在上海设立的以劳务派遣、人才咨询和人才中介为主要业务的公司。充分发挥V-TEC作为精密机械制造专业的厂商，拥有庞大的基数人才库和各地据点优势、提供多种类精湛的技术服务业务，派遣经验丰富、精通日语的工程师，此外，还开展人才中介服务及提供专业技术培训。
劳务派遣、人才咨询及业务外包服务
方便客户内部管理且降低用工成本，提供整套用工与辞退的劳务派遣、人才咨询服务。并根据客户需求提供各类设备的搬入、调试、改造、修理与维护、翻译等一条龙技术服务业务。
专业技术培训
微铁克（上海）人力资源管理有限公司（VSHC），是V-TEC集团在上海设立的以劳务派遣、人才咨询和人力中介为主要业务的公司。充分发挥V-TEC作为精密机械制造专业的厂商，拥有庞大的基数人才库和各地据点优势、提供各类精湛的技术服务业务，派遣经验丰富、精通日语的工程师，此外，还开展人才中介服务及提供专业技术培训。
