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光刻胶显影分析器 RDA-790
Litho Tech Japan 自成立以来，专注于光刻技术的研究，拥有非常全面的光刻技术，包含硬件、软件和工艺，提供高性能的光刻工艺设备和光刻胶分析设备。2021年成为VTEC全资子公司，加入半导体材料生产、研发的设备及光刻技术事业，不断创新，提供满足客户需要的产品和服务
- 产品描述
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可以评估光刻胶的显影速度，计算γ值、对比曲线、表面不溶解参数和显影参数。
特征：
监视器数量：18个通道
监视器波长：950nm
适用光刻胶抗蚀剂膜厚度：500nm～10μm
其他：显影液温度控制功能、晶圆自动插入、配备显影液自动供给和排水功能
可选功能：监控波长470nm
（适用光刻胶膜厚度100nm～1μm）
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