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Roll to Roll 曝光设备 DZ
DZ 是一种紧密接触型曝光设备，最适合用于 IC 引线框架、HDD 悬挂负载梁和 OLED 气相沉积掩模的曝光。除了采用垂直输送垂直曝光方式的设备外，还有支持水平输送水平曝光的机型和单晶圆型机型，可兼容多种应用。
光配向膜曝光设备 AEGIS
AEGIS是CELL工艺（TFT基板与彩膜基板贴合工艺）的核心制造设备，在液晶显示器的制造中占有重要地位。该设备是一种形成称为配向膜的功能性聚合物膜的设备，该膜使用特殊的紫外线和小型光掩模将显示器内部的液晶分子定向到某个方向。 可以准确、均匀地扫描曝光在涂有薄薄一层功能性高分子膜的母玻璃（最大约 3m x 4m）上，实现高生产率和均匀的曝光质量。另外，与传统的“摩擦法”相比，由于取向膜是利用光以非接触方式形成的，因此原则上不会出现异物和划痕等缺陷，并且可以大幅提高成品率。
大型玻璃基板曝光设备 RZ
大型玻璃基板曝光设备RZ是CF（彩色滤光片）工艺的核心曝光设备，在FPD（平板显示器）生产中很重要。RZ是基于NSK Technology于1994年发布的用于BM（Black Matrix）工艺的曝光设备。此后随着FPD的演进不断发展并取得成果，并于2018年制造并售出一台兼容G10.5的机器（约3m x 4m）。
外观检查设备 Capricorn(AOI)
Capricorn 是一种用于 FPD 制造过程的自动外观检测设备。由专用线阵CCD相机拍摄的图像信息，通过高性能图像处理装置进行分析，瞬间输出缺陷信息（位置、有无、形状、OK/NG等）。 缺陷信息用于分析过程中的问题和良率管理。例如，缺陷信息被扩展运用到检测设备下游的缺陷校正设备。此外，从缺陷发生的位置和内容上可以立即掌握上游工艺中的具体装置及缺陷发生了故障。 从 2002 年推出至今，该设备已广泛用于 FPD（平板显示器）的多种制造工艺，可处理最大约 3 x 3.4 m 的玻璃基板。特别是在LCD（液晶显示器）制造过程中的CF（彩色滤光片）工艺和CELL工艺（TFT基板和彩色滤光片基板的贴合工艺），以及模块工艺中被广泛应用。
彩膜缺陷修正设备 Jupiter(CF Repair)
Jupiter是修正FPD制造工序中产生的缺陷的装置，例如修正成膜时产生的突起状缺陷、膜内混入异物、像素和布线图案缺失等多种缺陷。通过使用先进开发的多功能校正头和高速载物台，可以高精度、高速地校正缺陷。此外，它还配备了高性能显微镜，可以根据缺陷的形状进行适当的放大，让您以清晰的图像观察和分析缺陷。 Jupiter 自 1999 年推出以来一直被所有参与 FPD 制造的客户使用，由于修正品质高、可靠性高、运用方便等原因，特别是在彩色滤色片（CF）工程方面取得了很高的交货业绩，现在也获得了很高的评价。
TFT 缺陷修正设备 Taurus (TFT Repair)
TFT（Thin Film Transistor）工艺是FPD制造工艺中极为重要和复杂的工艺。LCD（液晶显示器）和OLED（有机EL显示器）的性能和质量很大程度上受TFT所用技术和质量的影响。 Taurus 是一种缺陷校正设备，并随着显示器的发展，不断提高精细化、高难度化的TFT 制造的良率管理 ， 通过气窗激光CVD可以局部形成金属膜，并修正金属布线中的开路缺陷。除了通过应用导电材料来修正缺陷外，还可以使用高性能激光进行高精度和低损坏的修正。此外，通过采用高速载物台，即使对于尺寸为 3m x 3.4m 的玻璃基板，也缩短了对其处理时间。
精密坐标测定设备 Mercury (TP/CD)
FPD 是通过在巨大的玻璃基板上精确堆叠多层精细图案（例如细线和电极）而制成的。此外，LCD（液晶显示器）和OLED（有机EL显示器）是通过在TFT（薄膜晶体管）基板上叠加滤色器（CF）基板和气相沉积掩模，经过各种工艺完成的。 Mercury 是一种坐标测量设备，可在需要叠加精度的 FPD 制造过程中以亚微米精度测量高达 3m x 3.4m 的各种基板。它还支持几微米的微小像素图案的尺寸测量，这在制造用于智能手机的高清 OLED 时是必需的。 从 2000 年开始销售至今，它拥有非常高的交付记录，并且现在仍然受到高度评价。
微小尺寸测定设备 Venus(CD)
随着 FPD（平板显示器）、TFT（薄膜晶体管）的不断高精细化、复杂化，微尺寸测量设备作为良率管理工具也变得越来越重要。 Venus是一款微尺寸测量机，可测量高达3m x 3.4m的各种基板，具有亚微米精度，支持各种测量要求。
光罩外观检查设备 Gemini(AOI)
由于中小尺寸OLED的产量以及使用G10.5（约3m x 3.4m）母玻璃的FPD产量的增加，促进显示器的光掩模高精细化和大型化发展。光罩检测装置Gemini是一种简化的高精度X轴导气装置，与高刚性石材台面立体紧密结合的主动隔振台，高精度高刚性光罩支架，先进的旋转结构，除了陶瓷垂直导流器等V-TECHNOLOGY先进技术和内部CAD数据库转换电路进行比较检测外，还具备“mura映射”和“微接触孔高灵敏度检测功能”等先进的逻辑图像处理引擎，提供高速、高精度的外观检测，满足 8K 显示器和中小型有机 EL 显示器的光掩模需求。 此外，该设计足够灵活以适应工厂布局，例如半内置隔振台和包含薄膜处理系统的平面，以便实现对 AGV 的直接访问。
光罩缺陷修正设备 Sculptor(Repair)
Sculptor是专门用于FPD光掩模缺陷修正的缺陷修正设备。 开放缺陷（丢失或丢失图案）可以通过气体窗口激光 CVD 进行修正。此外，它还配备了针对修复短缺陷（异常图案连接）的激光器，可实现高质量的缺陷修正。它还支持具有半色调图案（光穿过金属膜的图案）的光掩模缺陷修正。
精密坐标测定设备 Mercury SHR
Mercury SHR 是可达到更高水平测量精度的光掩模坐标测量设备。该设备采用了多种技术来测量具有纳米分辨率的巨型光掩模。具有高定位精度和高平坦度的空气滑块和测量台、以纳米控制工作台位置的激光干涉仪和线性编码器、以及对环境影响小等先进的光机电一体化技术，使用先进的光学机械系统实现了更高水平的测定精度。另外，使用测定软件进行精度校正，进一步修正误差因素，保证测量的高精度和再现性。
