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光刻胶开发设备
蒸镀掩膜板
Roll to Roll 曝光设备 DZ
DZ 是一种紧密接触型曝光设备，最适合用于 IC 引线框架、HDD 悬挂负载梁和 OLED 气相沉积掩模的曝光。除了采用垂直输送垂直曝光方式的设备外，还有支持水平输送水平曝光的机型和单晶圆型机型，可兼容多种应用。
光配向膜曝光设备 AEGIS
AEGIS是CELL工艺（TFT基板与彩膜基板贴合工艺）的核心制造设备，在液晶显示器的制造中占有重要地位。该设备是一种形成称为配向膜的功能性聚合物膜的设备，该膜使用特殊的紫外线和小型光掩模将显示器内部的液晶分子定向到某个方向。 可以准确、均匀地扫描曝光在涂有薄薄一层功能性高分子膜的母玻璃（最大约 3m x 4m）上，实现高生产率和均匀的曝光质量。另外，与传统的“摩擦法”相比，由于取向膜是利用光以非接触方式形成的，因此原则上不会出现异物和划痕等缺陷，并且可以大幅提高成品率。
大型玻璃基板曝光设备 RZ
大型玻璃基板曝光设备RZ是CF（彩色滤光片）工艺的核心曝光设备，在FPD（平板显示器）生产中很重要。RZ是基于NSK Technology于1994年发布的用于BM（Black Matrix）工艺的曝光设备。此后随着FPD的演进不断发展并取得成果，并于2018年制造并售出一台兼容G10.5的机器（约3m x 4m）。
