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光刻胶平面曝光装置 VUVES-4700
Litho Tech Japan 自成立以来，专注于光刻技术的研究，拥有非常全面的光刻技术，包含硬件、软件和工艺，提供高性能的光刻工艺设备和光刻胶分析设备。2021年成为VTEC全资子公司，加入半导体材料生产、研发的设备及光刻技术事业，不断创新，提供满足客户需要的产品和服务
- 产品描述
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支持248nm、193nm光刻胶分析用曝光装置
特征：
1、搭载long life light source光源，可在248nm、193nm处进行曝光。
2、ABC参数测量功能
3、曝光区域5mm×5mm
4、Outgas收集功能 （可选功能）
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