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自动涂布显影设备 Dual-1000
Litho Tech Japan 自成立以来，专注于光刻技术的研究，拥有非常全面的光刻技术，包含硬件、软件和工艺，提供高性能的光刻工艺设备和光刻胶分析设备。2021年成为VTEC全资子公司，加入半导体材料生产、研发的设备及光刻技术事业，不断创新，提供满足客户需要的产品和服务
- 产品描述
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该设备搭载了光刻胶旋涂单元和抗蚀剂显影单元，可自由组合热板、冷却板、HMDS处理单元、洁净基板传送机器人等。根据客户的需要，可提供小到2英寸以下的基板、大到300mm的晶圆。
适用：
1、g-line / i-line 光刻胶、聚酰亚胺、层间绝缘膜、蜡等涂层材料；
2、 EB 光刻胶、EUV 光刻胶、ArF / KrF 光刻胶等化学增幅涂层材料；
3、用碱性显影剂和有机显影剂进行浸泡显影、喷雾显影。
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