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光刻胶显影分析仪RDA-800
Litho Tech Japan 自成立以来，专注于光刻技术的研究，拥有非常全面的光刻技术，包含硬件、软件和工艺，提供高性能的光刻工艺设备和光刻胶分析设备。2021年成为VTEC全资子公司，加入半导体材料生产、研发的设备及光刻技术事业，不断创新，提供满足客户需要的产品和服务
- 产品描述
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可评估光刻胶的显影速度、计算γ值、对比曲线、表面不溶解参数和显影参数。
通过晶片和透镜的显影剂同步插入机制，可以处理Rmax (5,000 nm / s) 光刻胶，例如 ArF 抗蚀剂。特征：
监视器数量：18个通道
监视器波长：470nm和950nm（双兼容）
适用光刻胶膜厚度：80nm至10μm
其他：显影剂温控功能，镜头/晶片同步自动插入，显影剂自动供给/排水功能安装，兼容有机溶剂；
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