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光刻胶显影分析器 RDA-790
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所属分类
光刻胶开发设备
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Product description
可以评估光刻胶的显影速度,计算γ值、对比曲线、表面不溶解参数和显影参数。
特征:
监视器数量:18个通道
监视器波长:950nm
适用光刻胶抗蚀剂膜厚度:500nm~10μm
其他:显影液温度控制功能、晶圆自动插入、配备显影液自动供给和排水功能
可选功能:监控波长470nm
(适用光刻胶膜厚度100nm~1μm)
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