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光配向膜曝光设备 AEGIS
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产品编号
所属分类
FPD制造设备
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Product description
特征
高对准精度
使用CCD相机查看实际图案的同时实时校正曝光,实现±1.5μm的曝光位置精度。
原则上不会发生常见缺陷
由于先进的扫描曝光,原则上不会发生由于微小灰尘和异物引起的常见缺陷。
降低光罩成本
较大的光掩模生产成本更高,而且往往更贵。AEGIS可以用小光罩曝光,可以显著降低光罩成本。
高生产力
它使用气流传输技术以稳定的传输速度实现高精度的连续扫描曝光,与传统设备相比,可以期待更高的生产率。
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大型玻璃基板曝光设备 RZ
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