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光刻胶显影分析仪RDA-800
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光刻胶开发设备
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Product description
可评估光刻胶的显影速度、计算γ值、对比曲线、表面不溶解参数和显影参数。
通过晶片和透镜的显影剂同步插入机制,可以处理Rmax (5,000 nm / s) 光刻胶,例如 ArF 抗蚀剂。
特征:
监视器数量:18个通道
监视器波长:470nm和950nm(双兼容)
适用光刻胶膜厚度:80nm至10μm
其他:显影剂温控功能,镜头/晶片同步自动插入,显影剂自动供给/排水功能安装,兼容有机溶剂;
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光刻胶显影分析器 RDA-790
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