该设备搭载了光刻胶旋涂单元和抗蚀剂显影单元，可自由组合热板、冷却板、HMDS处理单元、洁净基板传送机器人等。根据客户的需要，可提供小到2英寸以下的基板、大到300mm的晶圆。

适用：
1、g-line / i-line 光刻胶、聚酰亚胺、层间绝缘膜、蜡等涂层材料； 
2、 EB 光刻胶、EUV 光刻胶、ArF / KrF 光刻胶等化学增幅涂层材料； 
3、用碱性显影剂和有机显影剂进行浸泡显影、喷雾显影。